发明名称 |
一种低功耗二极管 |
摘要 |
一种低功耗二极管,包括具有P区和N区硅片衬底,此P区由P区域和围绕此P区域的周边P区域组成,周边P区域上表面覆盖多晶硅钝化膜层,P区域上表面覆盖作为阳极的第一金属层,所述多晶硅钝化膜层上表面覆盖玻璃胶层,N区下表面覆盖作为阴极的第二金属层,所述P区域的掺杂深度大于周边P区域的掺杂深度;所述P区与所述N区之间的接触面呈弧形。本实用新型所述P区与N区之间的接触面呈弧形,克服了现有二极管功耗较大的缺陷。 |
申请公布号 |
CN202034373U |
申请公布日期 |
2011.11.09 |
申请号 |
CN201120071334.X |
申请日期 |
2011.03.17 |
申请人 |
苏州固锝电子股份有限公司 |
发明人 |
孙玉华 |
分类号 |
H01L29/861(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/861(2006.01)I |
代理机构 |
苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 |
代理人 |
马明渡 |
主权项 |
一种低功耗二极管,包括具有P区(1)和N区(2)的硅片衬底(3),此P区(1)由中央P区域(4)和围绕此中央P区域(4)的周边P区域(5)组成,周边P区域(5)上表面覆盖多晶硅钝化膜层(6),中央P区域(4)上表面覆盖作为阳极的第一金属层(7),所述多晶硅钝化膜层(6)上表面覆盖玻璃胶层(8),N区(2)下表面覆盖作为阴极的第二金属层(9),其特征在于:所述中央P区域(4)的掺杂深度大于周边P区域(5)的掺杂深度;所述P区(1)与所述N区(2)之间的接触面呈弧形。 |
地址 |
215153 江苏省苏州市高新区通安经济开发区通锡路31号 |