PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA GENERAR PLASMA UNIFORME DE ALTA FRECUENCIA SOBRE UN AREA DE GRAN SUPERFICIE.

摘要

Un procedimiento de generación de plasma para generar plasma de alta frecuencia de forma uniforme sobre un área de gran superficie en un aparato de deposición de vapor químico de plasma en el cual se genera el plasma suministrando potencia de alta frecuencia a un electrodo de descarga, que comprende las etapas de: aplicar en un primer ciclo suministro de potencia de alta frecuencia a unas secciones de suministro de potencia primera y segunda que están instaladas en ambos extremos de un electrodo de descarga, en el que cada una de las potencias de alta frecuencia para dicha primera y dicha segunda secciones de suministro de potencia tienen la misma frecuencia; y aplicar en un segundo ciclo suministro de potencia de alta frecuencia a dicha primera sección de suministro de potencia mientras que se aplica suministro de potencia de alta frecuencia a dicha segunda sección de suministro de potencia con una frecuencia diferente; en el que dicho primero y dicho segundo ciclos se conmutan alternativamente para aplicar dichas frecuencias iguales o dichas frecuencias diferentes a dicha primera y dicha segunda secciones de suministro de potencia de forma continua, de modo que se genera un plasma diferente cambiando una posición de generación de las ondas estacionarias en cada uno de los ciclos, pero se genera un plasma uniforme cuando se promedia en el tiempo.