发明名称 Method of etching chalcogenide thin film and cleaning apparatus for depositing chalcogenide thin film
摘要 <p>본 발명은 NH플라즈마를 이용하여, 칼코제나이드계 박막을 에칭하는 방법과 칼코제나이드계 박막 증착장치를 클리닝하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 칼코제나이드계 박막 에칭 방법은 기판 상에 칼코제나이드계 박막이 형성되어 있는 적층구조물을 준비하고, 칼코제나이드계 박막 상에 NH플라즈마를 공급하여 칼코제나이드계 박막을 에칭한다. 그리고 본 발명에 따른 칼코제나이드계 박막 증착장치 클리닝 방법은 칼코제나이드계 박막 증착장치를 이용하여 칼코제나이드계 박막 증착을 수행한 다음, 칼코제나이드계 박막 증착장치 내부에 NH플라즈마를 공급하여 칼코제나이드계 박막 증착장치 내부를 클리닝한다.</p>
申请公布号 KR101079634(B1) 申请公布日期 2011.11.03
申请号 KR20090106081 申请日期 2009.11.04
申请人 发明人
分类号 H01L21/3065;H01L21/8247;H01L27/115 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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