发明名称 Halbleiterbauelement mit komplexen leitenden Elementen in einem dielektrischen Materialsystem, das unter Anwendung einer Barrierenschicht hergestellt ist
摘要 Es wird eine effiziente Strukturierungsstrategie angewendet, wenn durch ein dielektrisches Materialsystem auf der Grundlage zweier unterschiedlicher Ätzchemien geätzt wird. Dazu wird ein leitendes Ätzstoppmaterial oder Barrierenmaterial in der Öffnung vor dem Ätzen durch die weitere dielektrische Schicht des Materialsystems hergestellt, wodurch die anfängliche kritische Abmessung im Wesentlichen beibehalten wird und eine Ätzschädigung im Wesentlichen vermieden wird. Somit können bessere Kontaktöffnungen, Kontaktdurchführungen und dergleichen auf der Grundlage gut etablierter Ätzchemien hergestellt werden.
申请公布号 DE102010028463(A1) 申请公布日期 2011.11.03
申请号 DE20101028463 申请日期 2010.04.30
申请人 GLOBALFOUNDRIES DRESDEN MODULE ONE LIMITED LIABILITY COMPANY &amp, CO. KG;GLOBALFOUNDRIES INC. 发明人 CHUMAKOV, DMYTRO;GRIMM, VOLKER
分类号 H01L21/283;H01L21/768;H01L29/45 主分类号 H01L21/283
代理机构 代理人
主权项
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