发明名称 |
Halbleiterbauelement mit komplexen leitenden Elementen in einem dielektrischen Materialsystem, das unter Anwendung einer Barrierenschicht hergestellt ist |
摘要 |
Es wird eine effiziente Strukturierungsstrategie angewendet, wenn durch ein dielektrisches Materialsystem auf der Grundlage zweier unterschiedlicher Ätzchemien geätzt wird. Dazu wird ein leitendes Ätzstoppmaterial oder Barrierenmaterial in der Öffnung vor dem Ätzen durch die weitere dielektrische Schicht des Materialsystems hergestellt, wodurch die anfängliche kritische Abmessung im Wesentlichen beibehalten wird und eine Ätzschädigung im Wesentlichen vermieden wird. Somit können bessere Kontaktöffnungen, Kontaktdurchführungen und dergleichen auf der Grundlage gut etablierter Ätzchemien hergestellt werden.
|
申请公布号 |
DE102010028463(A1) |
申请公布日期 |
2011.11.03 |
申请号 |
DE20101028463 |
申请日期 |
2010.04.30 |
申请人 |
GLOBALFOUNDRIES DRESDEN MODULE ONE LIMITED LIABILITY COMPANY &, CO. KG;GLOBALFOUNDRIES INC. |
发明人 |
CHUMAKOV, DMYTRO;GRIMM, VOLKER |
分类号 |
H01L21/283;H01L21/768;H01L29/45 |
主分类号 |
H01L21/283 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|