发明名称 | 一种光闸莫尔条纹焦面检测方法 | ||
摘要 | 本发明是一种光闸莫尔条纹焦面检测系统,用于投影光刻机非接触快速焦面检测,该装置包括照明光源、扩束准直镜组、第一光栅、第一远心成像镜组、第二远心成像镜组、第二光栅、聚光镜、光电检测单元和硅片组成,该系统基于三角测量的基本原理,利用双光栅光闸莫尔条纹的光强调制特性,构建单个光栅周期内,焦面位移量和光能量线性关系。该系统是一种非接触、快速的光学测量手段,为投影光刻高精度实时焦面检测提供有效手段。 | ||
申请公布号 | CN102231046A | 申请公布日期 | 2011.11.02 |
申请号 | CN201110169156.9 | 申请日期 | 2011.06.17 |
申请人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明人 | 严伟;李艳丽;杨勇;王建;陈铭勇;邸成良 |
分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 梁爱荣 |
主权项 | 一种光闸莫尔条纹焦面检测系统,其特征在于,所述检测系统采用掠入射,形成三角测量光学结构,其是由照明光源(1)、扩束准直镜组(2)、第一光栅(3)、第一远心成像镜组(4)、第二远心成像镜组(5)、第二光栅(6)、聚光镜(7)、光电检测单元(8)和硅片(9)组成,照明光源(1)发出的宽谱光线上设有扩束准直镜组(2)、第一光栅(3)、第一远心成像镜组(4)和硅片(9),照明光源(1)发出的宽谱光通过扩束准直镜组(2)均匀照明第一光栅(3),第一光栅(3)通过远心成像镜组(4)成像于硅片(9),在硅片(9)的反射光线上设有第二远心成像镜组(5)、第二光栅(6)、聚光镜(7)、光电检测系统(8),硅片(9)是镜面反射,大部分反射光通过第二远心成像镜组(5)收集,而成像于第二光栅(6),在第二光栅(6)表面形成第一光栅(3)的像(3’),第一光栅(3)的像(3’)被第二光栅(6)调制生成调制光,调制光通过聚光镜(7)会聚到光电检测单元(8)进行光电转换和电学信号处理。 | ||
地址 | 610209 四川省成都市双流350信箱 |