一种光学膜片结构及其制造软光刻印章母模

摘要

本发明公开了一种光学膜片结构及其制造软光刻印章母模，光学膜片结构，包括一基片和一聚光层，聚光层设于基片一表面内与基片一体成型，或者独立设于基片表面上，所述聚光层包含有复数个聚光微结构单元，所述聚光微结构单元呈六棱锥无规则排布于基片表面上，六棱锥底面与基片表面贴合；软光刻印章母模，由电镀工艺制备，在高峰值电流密度下的脉冲电镀金属厚膜，所述金属厚膜具有强面外{111}织构，织构度大于85%，所述金属厚膜包括有孪晶晶粒，孪晶的共格孪晶界面与金属厚膜表面的夹角为0-45度，所述金属厚膜表面为所述复数个六棱锥状的聚光微结构单元。本发明通过六棱锥状的聚光微结构单元无规则随机分布，形成平滑起伏的结构，可有效消除Moire现象。

主权项

一种光学膜片结构，包括一基片和一聚光层，其特征在于，聚光层设于基片一表面内与基片一体成型，或者独立设于基片表面上；所述聚光层包含有复数个聚光微结构单元，所述聚光微结构单元呈六棱锥无规则排布于基片表面上，六棱锥底面与基片表面贴合。