一种全合成超大尺寸超低水峰光纤预制棒制造设备

摘要

本实用新型涉及的是一种全合成超大尺寸超低水峰光纤预制棒制造设备，具体的说就是制备超大尺寸超低水峰光纤预制棒的制造设备。首先是调整喷灯组的流量和位置，使芯棒母材直径不变的情况下增大芯层直径；然后再芯棒粉末棒、多孔玻璃预制棒的玻璃化过程前分别作氘气处理。其制造设备包括一种光纤预制棒芯棒母材的沉积装置和光纤预制棒芯棒母材、多孔玻璃预制棒的烧结装置；所述光纤预制棒芯棒母材的沉积装置包括气体供应部分，旋转提升部分，控制部分；旋转提升部由伺服电机、传动丝杆、丝杆螺母以及沉积吊杆组成；所述光纤预制棒芯棒母材、多孔玻璃预制棒的烧结装置包括烧结气体供应部分，预制棒旋转提升部和烧结炉。

主权项

一种全合成超大尺寸超低水峰光纤预制棒制造设备，其特征在于包括一种光纤预制棒芯棒母材的沉积装置和光纤预制棒芯棒母材、多孔玻璃预制棒的烧结装置；所述光纤预制棒芯棒母材的沉积装置包括气体供应部分，旋转提升部分，控制部分，其中气体供应部包括喷灯组和控制喷灯流量的控制单元；旋转提升部由伺服电机、传动丝杆、丝杆螺母以及沉积吊杆组成；控制部由位置测量仪和PLC组成； 所述沉积吊杆可以上下移动，移动速度由芯棒母材下端面的位置决定；也可以顺逆时针旋转，旋转速度为5r/min～30r/min，沉积吊杆的动作由PLC控制，伺服电机执行；所述喷灯组包括三个喷灯，分为c喷灯、b喷灯、a喷灯，其中c喷灯流出的原料为四氯化硅、四氯化锗，燃烧气体为氢气、氧气，载流气体为氩气，沉积芯棒母材的芯层部分，其中四氯化硅的流量范围为0~30g/min，四氯化锗的流量范围为0~20mg/min，氢气的流量范围为0~50L/min，氧气的流量范围为0~100L/min，氩气的流量范围为0~50L/min； b喷灯和 a喷灯则沉积芯棒的光学包层部分，流出的原料为四氯化硅，燃烧气体为氢气、氧气，载流气体为氩气，其中四氯化硅的流量范围为0~100g/min，氢气的流量范围为0~150L/min，氧气的流量范围为0~200L/min，氩气的流量范围为0~50L/min；所述光纤预制棒芯棒母材、多孔玻璃预制棒的烧结装置包括烧结气体供应部分，预制棒旋转提升部和烧结炉；其中烧结气体供应部分包括直通烧结炉石英腔体内的入气口、烧结气体流量的控制单元；预制棒旋转提升部由预制棒旋转伺服电机、预制棒旋转传动丝杆、传动丝杆螺母以及预制棒烧结吊杆组成；烧结炉具有烧结炉石英腔体，烧结炉石英腔体上设置有入气口；所述预制棒烧结吊杆可以上下移动，移动速度由芯棒母材下端面的位置决定；也顺逆时针旋转，旋转速度为10r/min～30r/min，预制棒烧结吊杆的动作由PLC控制，预制棒旋转伺服电机执行；所述入气口连接有烧结气体流量的控制单元，并连接蒸发罐来气化液体；所述烧结气体流量的控制由流量控制单元控制，各种气体的流量都由各自的质流量计来单独控制，其中氮气的流量范围为0~30slpm，氯气的流量范围为0~5slpm，氦气的流量范围为0~20slpm，氘气的流量范围为0~10 slpm。