| 发明名称 |
补偿亮度之先进微影制程系统与方法 |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
TWI351586 |
申请公布日期 |
2011.11.01 |
| 申请号 |
TW096103587 |
申请日期 |
2007.01.31 |
| 申请人 |
台灣積體電路製造股份有限公司 新竹市新竹科學工業園區力行六路8號 |
发明人 |
张世明;王文娟;金持正;吕启纶;秦圣基;谢弘璋 |
| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼 |
| 主权项 |
一种微影系统，包括：一光源用以提供能量；一影像系统用以导引该能量至一基材以于其上形成一预先设定之影像，该影像系统用以定义一光学轴；以及一开口装置用以与该影像系统共同作用，该开口装置具有沿着垂直该光学轴之一放射状轴线所定义之复数个穿透区，而每一穿透区可用以穿透可调整强度之该能量，其中每一穿透区可各自被调整以提供一不对称照射，用以补偿与角度相关之一关键尺寸误差。 |
| 地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |
