| 摘要 |
В заявке описаны новые источники плазмы, пригодные для использования в технологии нанесения тонкопленочных покрытий, и способы применения этих источников. В частности, в настоящем изобретении предложены новые линейные и двумерные источники плазмы, которые создают линейную и двумерную плазму соответственно, которая подходит для плазменно-химического осаждения из газовой фазы. В настоящем изобретении также предложены способы изготовления тонкопленочных покрытий и способы повышения эффективности этих способов нанесения покрытия. |
