| 摘要 |
<p>복수매의 피처리 기판에 대해 함께 플라즈마 처리를 실시하는 반도체 처리용 종형 플라즈마 처리 장치는, 처리 가스의 적어도 일부를 플라즈마화하는 여기 기구를 구비한다. 여기 기구는 플라즈마 발생 영역을 사이에 두고 대향하도록 플라즈마 생성 박스에 배치된 제1 및 제2 전극과, 제1 및 제2 전극에 플라즈마 발생용 고주파 전력을 공급하는 고주파 전원과, 고주파 전원은 제1 및 제2 출력 단자를 구비하고, 제1 및 제2 출력 단자는 각각 접지 및 비접지 단자이다. 절환 기구가 배치되어, 제1 전원과 제1 출력 단자가 접속되고 또한 제2 전극과 제2 출력 단자가 접속된 제1 상태와, 제1 전극과 제2 출력 단자가 접속되고 또한 제2 전극과 제1 출력 단자가 접속된 제2 상태를 절환한다.</p> |
