发明名称 NONVOLATILE SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD OF SCREENING THE SAME
摘要 <p>메모리 셀은, 가변 저항 막과, 가변 저항 막의 한 면에 한 면이 접하는 제1 도전막과, 가변 저항 막의 다른 면에 한 면이 접하는 제2 도전막을 포함한다. 제1 도전막 또는 제2 도전막에 흐르는 전류의 방향에 직교하는 방향으로의 제1 도전막 또는 제2 도전막의 폭은 상기 가변 저항 막에 흐르는 전류의 방향에 직교하는 방향으로의 상기 가변 저항 막의 폭보다 작다. 제1 도전막 및 제2 도전막에 흐르는 전류의 방향에 직교하는 방향으로의 제1 도전막 및 제2 도전막의 폭은 상기 제1 배선 및 상기 제2 배선에 흐르는 전류의 방향에 직교하는 방향으로의 상기 제1 배선 및 상기 제2 배선의 폭보다 작다.</p>
申请公布号 KR101077737(B1) 申请公布日期 2011.10.27
申请号 KR20100020687 申请日期 2010.03.09
申请人 发明人
分类号 H01L21/8247;H01L27/115 主分类号 H01L21/8247
代理机构 代理人
主权项
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