| 摘要 |
<p>본 발명은 세정에 의해 기판 표면에 부착된 이물질을, 박막 형성 전에 제거함으로써, 양호한 막질을 갖는 광학 필터의 제조방법을 제공하는 것을 과제로 한다. 상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 광학 필터의 제조방법은, 수분을 포함한 용액을 사용하여 기판(S)을 세정하는 세정공정(P1)과, 세정공정(P1)에 의해 세정된 기판(S)의 표면을 산소 가스의 플라즈마에 의해 플라즈마 처리하는 전처리공정(P3)과, 전처리공정(P3)에 의해 플라즈마 처리된 기판(S)의 표면에 박막을 형성하는 박막 형성공정(P4, P5)을 행함으로써, 기판 표면에 부착된 이물질을 효과적으로 제거할 수 있으며, 또한, 전처리공정(P3)에서는, 플라즈마를 발생시키는 영역에 산소 가스만이 도입되고, 또한, 도입되는 산소 가스 유량은, 박막 형성공정에서 도입되는 산소 가스 유량보다도 많게 함으로써, 세정공정에 있어서 기판(S)의 표면에 OH기 결합을 매개로 하여 부착된 이물질을, 박막 형성공정(P4, P5) 전에 효과적으로 제거하여, 막 빠짐부의 발생을 방지하는 것을 특징으로 한다.</p> |
