| 摘要 |
<p>저항막과, 저항막에 전압을 인가하는 공통 전극을 구비하며, 공통 전극으로부터 상기 저항막에 전위를 공급함으로써, 저항막에 전위 분포를 발생시키고, 저항막의 접촉 위치의 전위를 검출함으로써, 저항막의 접촉 위치 좌표를 검출하는 좌표 검출 장치의 제조 방법으로서, 절연체로 이루어진 기판 상에 형성되어 있는 저항막 상에 포토레지스트를 도포하는 공정과, 소정의 마스크를 통해 노광광을 조사하고, 그 후 현상함으로써 레지스트 패턴을 형성하는 공정과, 레지스트 패턴이 형성되어 있지 않은 영역의 저항막을 제거하여, 저항막 제거 영역을 형성하는 공정과, 레지스트 패턴을 제거하는 공정과, 저항막 제거 영역 상에 상기 공통 전극을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 좌표 검출 장치의 제조 방법을 제공함으로써 상기 과제를 해결한다.</p> |
