发明名称 |
一种倒置结构有机发光装置及其制作方法 |
摘要 |
本发明提供一种倒置结构有机发光装置及其制作方法,将采用倒置结构有机发光装置采用低功函数、高稳定性硼化物薄膜作为阴极。一种倒置结构有机发光装置的制造方法,包括如下步骤:沉积步骤:将硼化物放置在特定的容器内,加热硼化物,使其蒸发沉积到基板,以上形成一硼化物薄膜;处理步骤:对所述硼化物薄膜进行表面处理;成型步骤:依次在所述硼化物薄膜上形成电子传输和发光层、空穴传输层、空穴注入层和阳极层。 |
申请公布号 |
CN101692484B |
申请公布日期 |
2011.10.26 |
申请号 |
CN200910109361.9 |
申请日期 |
2009.08.17 |
申请人 |
深圳丹邦投资集团有限公司 |
发明人 |
刘萍;陈文彬 |
分类号 |
H01L51/56(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I;H01L51/54(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/56(2006.01)I |
代理机构 |
深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 |
代理人 |
江耀纯 |
主权项 |
一种倒置结构有机发光装置的制造方法,其特征在于,包括如下步骤:沉积步骤:将硼化物放置在特定的容器内,加热硼化物,使其蒸发沉积到基板,以形成一硼化物薄膜,所述硼化物选择采用六硼化镧或硼化铈;处理步骤:对所述硼化物薄膜进行表面处理;成型步骤:依次在所述硼化物薄膜上形成电子传输和发光层、空穴传输层、空穴注入层和阳极层;所述沉积步骤中,采用蒸发电子束轰击加热蒸发硼化物,加热环境的真空度为5×10‑5Pa;所述基板以10转/分钟的旋转速率旋转;所述基板的温度范围是150至400摄氏度;所述硼化物薄膜的沉积速率为1.5至10纳米/分钟。 |
地址 |
518000 广东省深圳市南山区高新技术产业园北区郎山一路 |