| 摘要 |
<p>본 발명은 플라즈마를 이용해 목적물에 대한 표면 처리를 수행하는 장치에 대한 것으로, 본 발명의 장치는 상기 목적물이 내부에 장입되고 외부에 대해 밀폐된 공간을 형성하는 챔버; 상기 챔버 내부에 위치하고 상기 목적물이 부착되는 기판부; 상기 챔버에 장착되고 상기 챔버의 밀폐된 공간 내에 전계를 유도하는 플라즈마 캐소드 유닛; 및 상기 플라즈마 캐소드 유닛에 전원을 인가하는 전원부를 포함하되, 상기 플라즈마 캐소드 유닛은 상기 챔버의 밀폐된 공간을 향해 돌출되고 서로 소정 거리로 이격되며 서로 다른 극성의 전원이 인가되는 두 전극으로 이루어지는 전극 쌍을 포함하고 상기 전극 쌍은 그 두 전극에 서로 다른 극성의 전원이 인가되어 상기 챔버의 밀폐된 공간 내에 전계를 유도하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 플라즈마를 이용한 표면 세정의 효율이 향상되고, 표면의 오염으로 인한 탈막현상을 줄여 박막 증착의 신뢰성이 향상되며, 전극 간 거리를 크게 이격시키지 않고도 플라즈마 가스에 대해서 효율적으로 전계를 유도할 수 있다.</p> |
