INDUCTION HEATER, CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS COMPRISING THE SAME AND METHOD OF CONTROLLING TEMPERATURE DISTRIBUTION OF CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS COMPRISING INDUCTION HEATER,申请号KR20100036574-传众专利搜索

发明名称	INDUCTION HEATER, CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS COMPRISING THE SAME AND METHOD OF CONTROLLING TEMPERATURE DISTRIBUTION OF CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS COMPRISING INDUCTION HEATER
摘要
申请公布号	KR20110116902(A)	申请公布日期	2011.10.26
申请号	KR20100036574	申请日期	2010.04.20
申请人	LIGADP CO., LTD.	发明人	LEE, CHANG YEOB
分类号	C23C16/46;C23C16/52;H01L21/205	主分类号	C23C16/46
代理机构		代理人
主权项
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