发明名称 用于通过受抑全内反射来探测目标颗粒的传感器装置
摘要 本发明涉及一种用于探测载体(11)的接触表面(12)处的目标颗粒(1)的光学传感器装置(100),所述传感器装置包括:光源(21、22),用于发射入射光束(L1)到所述载体(11)中,使得所述入射光束被在所述接触表面(12)全内反射成并由目标颗粒(1)部分散射成输出光束(L2)。所述传感器装置还包括光学系统(30),用于将所述输出光束(L2)引导至光探测器(50)上,其中所述光学系统(30)中的滤光器(32)抑制全内反射光分量(L2d)。所述探测器因此主要测量散射光部分(L2s)。
申请公布号 CN102227625A 申请公布日期 2011.10.26
申请号 CN200980147902.5 申请日期 2009.11.26
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 J·J·H·B·施莱彭
分类号 G01N21/51(2006.01)I;G01N21/64(2006.01)I;G01N33/543(2006.01)I 主分类号 G01N21/51(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 陈松涛;蹇炜
主权项 一种用于探测载体(11)的接触表面(12)处的目标颗粒(1)的光学传感器装置(100),包括:a)光源(21、22),用于发射入射光束(L1)到所述载体(11)中,使得所述入射光束被在所述接触表面(12)处全内反射成并由所述接触表面(12)处的目标颗粒(1)部分散射成输出光束(L2);b)光学系统(30),用于将所述输出光束(L2)引导至光探测器(50)上,所述光学系统(30)包括用于抑制全内反射光分量(L2d)的滤光器(32)。
地址 荷兰艾恩德霍芬