薄膜晶体管阵列基板及其制造方法

摘要

本发明公开了一种薄膜晶体管阵列基板及其制造方法，其中在不使用任何光刻胶的情况下对钝化层直接进行曝光和构图工艺，从而简化了制造工艺并确保减少了制备成本。具体地说，该方法包括：在基板上形成选通线和栅极；形成半导体层，该半导体层与所述栅极绝缘并与所述栅极的一部分交叠；分别在所述半导体层的两侧上形成源极和漏极，同时形成与所述选通线交叉的数据线；使用具有感光基团X的金属醇盐和具有感光基团Y的硅醇盐的溶胶化合物，在包括所述源极和所述漏极的所述基板的整个上表面上形成钝化层；对所述钝化层进行曝光和显影，以形成暴露出所述漏极的接触孔；以及形成要通过所述接触孔与所述漏极接触的像素电极。

主权项

一种薄膜晶体管阵列，该薄膜晶体管阵列包括：形成在基板上的选通线和栅极；半导体层，该半导体层与所述栅极绝缘并与所述栅极的一部分交叠；分别形成在所述半导体层的两侧上的源极和漏极，以及与所述选通线交叉的数据线；钝化层，该钝化层形成在包括所述源极和所述漏极的所述基板的整个上表面上，该钝化层由包括具有感光基团X的金属醇盐和具有感光基团Y的硅醇盐的溶胶化合物制成；以及与所述漏极接触的像素电极，其中，所述感光基团X和Y中的每一个都是从包括双键、三键、丙烯酸酯基团、环氧基团以及氧杂环丁烷基团的组中选择的至少一种。