| 发明名称 | 一种光刻胶清洗剂组合物 | ||
| 摘要 | 一种光刻胶清洗剂组合物，含有：季铵氢氧化物、水、烷基二醇芳基醚、二甲基亚砜和至少一种选自柠檬酸、柠檬酸酯和柠檬酸盐的缓蚀剂，其中烷基二醇芳基醚中烷基二醇的碳原子数目为3～18。这种清洗剂组合物可以进一步含有极性有机共溶剂、表面活性剂和/或其它缓蚀剂。这种清洗剂组合物可以除去金属、金属合金或电介质基材上的厚度为20μm以上的光刻胶(尤其是厚膜负性光刻胶)和其它刻蚀残留物，同时对铝和铜等金属以及二氧化硅等非金属材料的腐蚀性较低，因此可用于半导体晶片清洗等微电子领域。 | ||
| 申请公布号 | CN102227690A | 申请公布日期 | 2011.10.26 |
| 申请号 | CN200980148364.1 | 申请日期 | 2009.11.19 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 彭洪修 |
| 分类号 | G03F7/42(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;C23G1/06(2006.01)I;C11D1/66(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/42(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | PCT国内申请，权利要求书已公开。 | ||
| 地址 | 201203 中国上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||