发明名称 Method for fabricating phase shift mask with enhanced resolution and mask thereby
摘要 광투과 영역을 설정하는 마스크(mask) 영역의 레이아웃(layout)을 얻고, 마스크 영역의 가운데 부분에 차광을 위한 새도우 코어(shadow core) 영역을 배치하여 마스크 영역의 가장자리 부분에 위치하는 위상전이 영역의 레이아웃을 얻은 후, 위상전이 영역의 레이아웃을 따르는 위상전이층 패턴들을 광투과 기판 상에 형성하고, 위상전이층 패턴들 사이의 광투과 영역에 해당되는 기판 부분을 노출하고 위상전이층 패턴들 사이의 새도우 코어 영역에 해당되는 기판 부분을 덮어 차광하는 새도우 코어(shadow core)층 패턴을 형성하는 위상전이마스크 제조 방법 및 이에 따른 마스크를 제시한다.
申请公布号 KR101076883(B1) 申请公布日期 2011.10.25
申请号 KR20090020242 申请日期 2009.03.10
申请人 发明人
分类号 G03F1/00;H01L21/027 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人
主权项
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