平面电弧金属靶材的初始化方法

摘要

本发明揭示了一种全新的金属靶材初始化方法，采用弧斑在金属靶材表面形成一边界整齐的膜离子跑道。通过初始化处理后，靶材表面形成一条跑道，它能够有效束缚弧斑的运动，并使成膜离子沿着一定的方向在空间一定区域朝着工件运动；较深的跑道沟壑能够有效吸附金属液滴，从而达到细化成膜离子，减少膜层表面坑点，降低膜层表面粗糙度；更重要的是，通过初始化处理后，跑道底部磁强加强，弧斑得到有力的约束，电离的更加充分，金属离子具有更大的能量，能够和反应气体充分反应，形成的膜层更加致密，且与基板结合更加牢固，从而大幅提高膜层的性能。

主权项

一种平面电弧金属靶材的初始化方法，其特征在于：包括以下步骤，步骤一：将镀膜真空室抽至1.0×10‑3Pa以上的真空度；步骤二：向镀膜真空室内通入工艺气体，使真空腔内的真空度达到5.0‑0.1Pa，步骤三：在基板上施加偏压为50‑300V的偏压电流，占空比为5%‑90%；步骤四：将金属靶材接通电源，设置弧电流为60‑200A；步骤五：启动引弧装置使金属靶材表面产生弧斑；步骤六：弧斑在设于金属靶材后方的磁场的作用下，在金属靶材表面形成一边界整齐的膜离子跑道及跑道沟壑；步骤七：当基板上的偏压电流稳定并达到一特定范围的时候，结束初始化处理。