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发明名称
APPARATUS FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION COMPRISING LIGHT SOURCE, AND THE METHOD OF DEPOSITION USING THE SAME
摘要
申请公布号
KR20110115992(A)
申请公布日期
2011.10.24
申请号
KR20110099890
申请日期
2011.09.30
申请人
JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.
发明人
HWANG, CHUL JU
分类号
H01L21/205
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
主权项
地址
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