| 主权项 |
一种正型光阻组成物，其为含有(A)主链具有经由酸之作用而增大硷可溶性之由(α-C1~5烷基)丙烯酸酯所衍生之结构单位(a1)之树脂成份，与(B)经由放射线之照射而产生酸之酸产生剂成份之正型光阻组成物，其特征为，前述树脂成份(A)为含有结构单位(a1)及，与结构单位(a2)之共聚物，结构单位(a1)为，至少含有1种以上(α-C1~5烷基)丙烯酸酯之单体于酸之存在下进行聚合制造之际，经由酸之存在下，该酸可对聚合前之(α-C1~5烷基)丙烯酸酯，及/或该单体经由聚合所生成之聚合物中之结构单位(a1)中之一部份产生作用，使该酯末端解离结果，使所得之结构单位(a1)形成具有(α-C1~5烷基)丙烯酸结构之结构单位，前述结构单位(a1)为下述式(a-1)所表示之结构单位，@sIMGTIF!d10001.TIF@eIMG!(式中，R为氢原子或甲基，X为酸解离性溶解抑制基、含内酯之单环或多环式基、含极性基之脂肪族烃基，或多环式之脂肪族烃基)；前述结构单位(a2)为下述式(4)所表示之结构单位，@sIMGTIF!d10002.TIF@eIMG!(式中，R为氢原子或甲基)。如申请专利范围第1项之正型光阻组成物，其中，前述树脂成份(A)为于溶液中使前述单体进行聚合，且该溶液中存在有0.1至1000ppm浓度之酸下所制得之共聚物。如申请专利范围第1项之正型光阻组成物，其中，前述树脂成份(A)为含有，具酸解离性溶解抑制基之(α-C1~5烷基)丙烯酸酯所衍生之结构单位(a11)，与(α-C1~5烷基)丙烯酸所衍生之结构单位(a2)之共聚物，且前述结构单位(a2)，为由(α-C1~5烷基)丙烯酸酯之酯末端部经由前述酸之作用而解离所生成之(α-C1~5烷基)丙烯酸所衍生之结构单位(a2’’-1)，及(α-C1~5烷基)丙烯酸酯所衍生之结构单位之酯末端部经前述酸之作用而解离生成之结构单位(a2’’-2)所成群中所选出之至少1种。如申请专利范围第3项之正型光阻组成物，其中，前述结构单位(a2)为由前述结构单位(a11)所衍生之(α-C1~5烷基)丙烯酸酯之前述酸解离性溶解抑制基经由前述酸之作用而解离所生成之(α-C1~5烷基)丙烯酸所衍生之结构单位(a2’’-1-1)，及由前述结构单位(a11)之前述酸解离性溶解抑制基经由前述酸之作用而解离生成之结构单位(a2’’-2-1)所成群中所选出之至少1种。如申请专利范围第3项之正型光阻组成物，其中，前述结构单位(a11)为具有含脂肪族环式基之酸解离性溶解抑制基的(α-C1~5烷基)丙烯酸酯所衍生之结构单位。如申请专利范围第5项之正型光阻组成物，其中，前述结构单位(a11)为由下述式(a1-1-01)或式(a1-1-03)所示结构单位所成群中所选出之至少1种，@sIMGTIF!d10003.TIF@eIMG!(式中，R为氢原子或C1~5烷基，R11为C1~5烷基)@sIMGTIF!d10004.TIF@eIMG!(式中，R为氢原子或C1~5烷基，R2与R3各自独立为C1~5烷基)。如申请专利范围第3项之正型光阻组成物，其中，前述树脂成份(A)为尚具有具含内酯之单环或多环式基之(α-C1~5烷基)丙烯酸酯所衍生之结构单位(a12)的共聚物。如申请专利范围第7项之正型光阻组成物，其中，结构单位(a12)为下述式(a2-1)所示结构单位所成群中所选出之至少1种，@sIMGTIF!d10005.TIF@eIMG!(式中，R为氢原子或C1~5烷基，R’各自独立为氢原子、C1~5烷基，或碳数1至5之烷氧基)。如申请专利范围第3项之正型光阻组成物，其中，前述树脂成份(A)为尚具有具含极性基之脂肪族烃基之(α-C1~5烷基)丙烯酸酯所衍生之结构单位(a13)的共聚物。如申请专利范围第9项之正型光阻组成物，其中，前述结构单位(a13)为下述式(a3-1)所示结构单位所成群中所选出之至少1种，@sIMGTIF!d10006.TIF@eIMG!(式中，R为氢原子或C1~5烷基，j为1至3之整数)。如申请专利范围第1项之正型光阻组成物，其尚含有含氮有机化合物(D)。一种光阻图型之形成方法，其特征为包含使用申请专利范围第1至11项中任一项之正型光阻组成物于基板上形成光阻膜之步骤，使前述光阻膜曝光之步骤，使前述光阻膜显影以形成光阻图型之步骤。 |
