发明名称 立体投影光学系统
摘要
申请公布号 TWI350924 申请公布日期 2011.10.21
申请号 TW096133432 申请日期 2007.09.07
申请人 鴻海精密工業股份有限公司 新北市土城區自由街2號 发明人 许建文 新北市土城区自由街2号;高嘉宏 新北市土城区自由街2号
分类号 G02B27/22 主分类号 G02B27/22
代理机构 代理人
主权项 一种立体投影光学系统,其改进在于,其包括:一第一偏振分束器,该第一偏振分束器用于将入射光分成偏振方向垂直之第一偏振光及第二偏振光;一穿透式光调制器,设置于所述第一偏振分束器出射之第一偏振光之出射光路上,该穿透式光调制器具有开启及截止两个交替的工作状态,该穿透式光调制器处于开启状态时,所述第一偏振光穿过所述穿透式光调制器,该穿透式光调制器处于截止状态时,所述穿透式光调制器将入射之所述第一偏振光调制为第二偏振光并出射;一图像吸收器,该图像吸收器设置于所述穿透式光调制器之出射光路上,其包括一第二偏振分束器、一第一反射式空间光调制器以及一第二反射式空间光调制器;所述第一偏振分束器出射之第一偏振光穿过所述开启状态之穿透式光调制器,并经过第二偏振分束器后照射在第一反射式空间光调制器上,该第一反射式空间光调制器将该第一偏振光调制成第二偏振光反射出去,调制后出射之该第二偏振光经过第二偏振分束器后发射出去;所述第一偏振分束器出射之第一偏振光入射到所述截止状态之穿透式光调制器,并经该穿透式光调制器将该第一偏振光调制成第二偏振光后出射,调制后出射之该第二偏振光经过第二偏振分束器后照射在第二反射式空间光调制器上,该第二反射式空间光调制器将该第二偏振光调制成第一偏振光反射出去,该调制后出射之第一偏振光经过第二偏振分束器后发射出去。
地址 新北市土城区自由街2号