烷氧化物、薄膜形成用原料及薄膜之制造方法,申请号TW094136573-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	烷氧化物、薄膜形成用原料及薄膜之制造方法
摘要
申请公布号	TWI350837	申请公布日期	2011.10.21
申请号	TW094136573	申请日期	2005.10.19
申请人	艾迪科股份有限公司日本	发明人	山田直树;樱井淳
分类号	C07F15/02;C07C215/08;C23C16/40;H01L21/312;H01L29/78;H01L27/04	主分类号	C07F15/02
代理机构		代理人	陈长文台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项	一种烷氧化物，其系以下述通式(I)所示者，(式中，R1及R2分别独立表示氢原子或碳原子数1~4之烷基，R3及R4表示碳原子数1~4之烷基，A表示碳原子数1~8之烷二基(alkanediyl groups))。
地址	日本

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