| 发明名称 |
光阻剂及其应用制程 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI350944 |
申请公布日期 |
2011.10.21 |
| 申请号 |
TW096128758 |
申请日期 |
2007.08.03 |
| 申请人 |
元智大學 桃園縣中壢市遠東路135號 |
发明人 |
廖朝光 桃园县中坜市元化路111巷17之1号;周文伟;吴荣康 |
| 分类号 |
G03F7/004;G03F7/028;G03F7/033;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
张耀晖 台北市大安区敦化南路2段71号18楼;庄志强 台北市大安区敦化南路2段71号18楼 |
| 主权项 |
一种光阻剂，其应用于制造一具有图样(pattern)之基板之制程，该光阻剂包含：一光触媒；一高分子黏着剂与该光触媒混合，该高分子黏着剂在照光后可被该光触媒所裂解；以及一溶剂；其中，该光触媒与该高分子黏着剂系以一预定重量百分比均匀分散于该溶剂之中。 |
| 地址 |
桃园县中坜市远东路135号 |
