发明名称 成膜装置的时效处理方法
摘要
申请公布号 TWI351062 申请公布日期 2011.10.21
申请号 TW096107225 申请日期 2007.03.02
申请人 三菱重工業股份有限公司 日本 发明人 嶋津正;河野雄一
分类号 H01L21/318 主分类号 H01L21/318
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种成膜装置的时效处理方法,属于在收容于处理容器内的基板成膜氮化矽膜的成膜装置的时效处理方法,其特征为:于上述处理容器内供给洗净气体,将该洗净气体作成电浆状态,蚀刻附着于上述处理容器内壁的上述氮化矽膜,于上述处理容器内供给矽系气体,将该矽系气体作成电浆状态,于上述处理容器内壁堆积非晶矽膜,于上述处理容器内供给矽系气体,同时一边供给氮系气体一直渐增至所定流量,一边将该矽系气体及该氮系气体作成电浆状态,于上述非晶矽膜上堆积朝厚度方向渐增氮含有量的氮化矽膜,一直到氮化矽膜对基板开始成膜为止,于上述处理容器内供给惰性气体,以维持该惰性气体的电浆状态。
地址 日本