发明名称 Vapor Deposition Reactor
摘要 <p>기상 증착 반응기는, 제1 물질을 기판에 주입하는 제1 주입부; 및 상기 제1 주입부 내에 위치하며 제2 물질을 기판에 주입하는 하나 이상의 제2 주입부를 포함하는 반응 모듈을 포함할 수 있다. 상기 반응 모듈은 기판과의 상대적인 이동으로 기판이 상기 반응 모듈을 통과하는 구조를 가질 수 있다. 상기 기상 증착 반응기는 반응 모듈을 통과하는 기판을 챔버 내의 분위기에 노출하지 않고 기판에 복수 개의 물질을 주입할 수 있는 이점이 있다.</p>
申请公布号 KR101076172(B1) 申请公布日期 2011.10.21
申请号 KR20090074133 申请日期 2009.08.12
申请人 发明人
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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