| 发明名称 |
PROCEDE DE DECONTAMINATION DE TRANCHES SEMICONDUCTRICES |
| 摘要 |
<p>L'invention concerne un procédé de décontamination d'au moins un objet (7, 9) contenu dans une enceinte (1), ce procédé comprenant une alternance de premières étapes d'abaissement de la pression dans l'enceinte, et de secondes étapes d'augmentation de la pression dans l'enceinte.</p> |
| 申请公布号 |
FR2959060(A1) |
申请公布日期 |
2011.10.21 |
| 申请号 |
FR20100052977 |
申请日期 |
2010.04.20 |
| 申请人 |
STMICROELECTRONICS (ROUSSET) SAS |
发明人 |
MARTIN CHRISTOPHE;COLLURA SEBASTIEN |
| 分类号 |
H01L21/324;H01L21/441;H01L21/67 |
主分类号 |
H01L21/324 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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