| 摘要 |
<p>L'invention s'applique à un procédé de lithographie par projection de cellules, notamment électronique par écriture directe. Une des limitations principales des procédés de ce type dans l'art antérieur est le temps d'écriture. Pour surmonter cette limitation, selon le procédé de l'invention, on augmente la taille des cellules jusqu'à l'ouverture numérique maximale du dispositif de lithographie. Avantageusement, cette augmentation de taille est obtenue par modification de la taille des ouvertures du niveau de stencil de projection le plus proche du substrat à graver. Avantageusement, on ajoute à l'extérieur du bloc à graver une bande sur laquelle est rayonnée une dose calculée pour optimiser la latitude en énergie du procédé. Avantageusement, cette bande est espacée du bord du bloc à graver.</p> |
