发明名称 |
一种8-羟基喹啉铝为修饰层的C60有机场效应晶体管 |
摘要 |
一种8-羟基喹啉铝为修饰层的C60有机场效应晶体管,包括栅电极、复合绝缘层、有源层、修饰层和源漏电极,其中修饰层为8-羟基喹啉铝并作为电极/有源层的阻挡层,栅电极为重掺杂磷的硅衬底,复合绝缘层包括SiO2绝缘层和PMMA绝缘层,有源层为高迁移率的n型有机小分子材料C60,源漏电极为金属铝。本发明的优点是:以8-羟基喹啉铝作为电极/有源层界面修饰层的有机场效应晶体管,能够获得更高的电子注入效率,进而获得更高的迁移率和更低的阈值电压,而且能够有效的阻挡金属原子向有源层渗透,本发明提供了一种提高n型有机场效应器件性能的较为简单实用的方法。该有机场效应晶体管的制备方法工艺简单、易于实施,便于推广应用。 |
申请公布号 |
CN102222766A |
申请公布日期 |
2011.10.19 |
申请号 |
CN201110122095.0 |
申请日期 |
2011.05.12 |
申请人 |
天津理工大学 |
发明人 |
程晓曼;郑宏;赵赓;田海军 |
分类号 |
H01L51/05(2006.01)I;H01L51/30(2006.01)I;H01L51/10(2006.01)I;H01L51/40(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/05(2006.01)I |
代理机构 |
天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 |
代理人 |
侯力 |
主权项 |
一种8‑羟基喹啉铝为修饰层的C60有机场效应晶体管,其特征在于:包括栅电极、复合绝缘层、有源层、修饰层和源漏电极,其结构式为Si/SiO2/PMMA/C60/Alq3/Al,所述修饰层为8‑羟基喹啉铝并作为电极/有源层的阻挡层。 |
地址 |
300384 天津市南开区红旗南路延长线天津理工大学主校区 |