发明名称 CMOS图像传感器及其形成方法
摘要 一种CMOS图像传感器,包括:基底;位于所述基底内或表面的P型埋层;位于所述基底上的N型外延层,所述N型外延层包括多个像素单元,所述像素单元包括N型感光区,所述N型感光区的位置与所述P型埋层的位置相对应。一种CMOS图像传感器的形成方法,包括:提供基底;形成位于所述基底内或表面的P型埋层;形成位于所述基底上的N型外延层,所述N型外延层包括多个像素单元,所述像素单元包括N型感光区,所述N型感光区的位置与所述P型埋层的位置相对应。本发明实施例的CMOS图像传感器捕获电子的区域更深,像素单元间串扰更小、电子溢出更少,成像质量好。
申请公布号 CN102222678A 申请公布日期 2011.10.19
申请号 CN201110170576.9 申请日期 2011.06.22
申请人 格科微电子(上海)有限公司 发明人 李杰;赵立新
分类号 H01L27/146(2006.01)I 主分类号 H01L27/146(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 骆苏华
主权项 一种CMOS图像传感器,其特征在于,包括:基底;位于所述基底内或表面的P型埋层;位于所述基底上的N型外延层,所述N型外延层包括多个像素单元,所述像素单元包括N型感光区,所述N型感光区的位置与所述P型埋层的位置相对应。
地址 201203 上海市浦东新区盛夏路560弄2号楼11层