正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法

摘要

本发明涉及一种正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法。本发明的目的在于提供一种正型放射线敏感性组合物、由该组合物形成的层间绝缘膜以及该层间绝缘膜的形成方法，该正型放射线敏感性组合物具有优异的放射线灵敏度，得到的层间绝缘膜具备高透光率和电压保持率的同时，具备可以应对固化膜的形成条件改变的优异的显影性和图案形成性。本发明涉及含有[A]在同一或不同聚合物分子中具有含下式(1)表示的基团的结构单元和含环氧基结构单元的聚合物、[B]光酸产生剂和[C]含长链烷基化合物的正型放射线敏感性组合物。

主权项

1.一种正型放射线敏感性组合物，该组合物含有：[A]在同一或不同聚合物分子中具有包含下述式(1)所示的基团的结构单元和含环氧基的结构单元的聚合物；[B]光酸产生剂；以及[C]下式(2)表示的化合物，式(1)中，R¹和R²各自独立地是氢原子、烷基、环烷基或芳基，这些烷基、环烷基或芳基的氢原子的一部分或全部可以被取代基团取代，其中，不包括R¹和R²都是氢原子的情形，R³是烷基、环烷基、芳烷基、芳基或-M(R^3m)₃所示的基团，M是Si、Ge或Sn，R^3m是烷基，这些的氢原子的一部分或全部可以被取代基团取代，R¹和R³可以连接形成环状醚结构，R⁴-Y¹-X-Y²-R⁵     (2)式(2)中，X是碳原子数为6～20的2价的直链脂肪族烃基，Y¹和Y²各自独立地是单键、酯键、酰胺键或氨基甲酸酯键，R⁴和R⁵各自独立地是氢原子、碳原子数为1～6的烷基、磺酸基、磺苯基或下式(i)～(vi)任意所示的基团，其中，Y¹或Y²为单键时，不包括与该Y¹或Y²连接的R⁴或R⁵为碳原子数为1～6的烷基的场合，另外，Y¹和Y²同时为单键时，不包括R⁴和R⁵同时为氢原子的场合，式(i)～(vi)中，R⁶是氢原子或碳原子数为1～6的烷基，R⁷是氢原子或甲基，m是0～6的整数，其中，上式(2)中的Y¹或Y²为单键时，与该Y¹或Y²链接的R⁴或R⁵中的m为0。