发明名称 Vacuum arc deposition device having a dual banded plasma duct
摘要 <p>본 발명은 이중굴곡 플라즈마 덕트를 구비한 진공아크 증착장치에 관한 것으로서, 음극 아크 방전에 의해 증착물질의 하전입자가 발생되는 아크증발부와, 상기 하전입자가 증착되는 기판 및 상기 아크증발부를 수용하여 대기와 차단시키며 굴곡부를 가지는 플라즈마 덕트와, 자장 형성에 의해 상기 하전입자를 상기 기판으로 이동시키기 위하여 상기 플라즈마 덕트 외주에 설치되는 자기장발생수단을 포함하되, 상기 플라즈마 덕트는 제1 곡률반경과 제1 곡률중심을 갖는 제1 굴곡부와, 상기 제1 굴곡부에 연속적으로 이어지되 상기 제1 곡률중심에 대향하는 제2 곡률중심과 제2 곡률반경을 갖는 제2 굴곡부를 포함하여 이루어지고, 상기 자기장발생수단은 상기 플라즈마 덕트를 감싸도록 상기 아크증발부 주위와 기판 주위에 설치되는 제1 및 제2 자장원과, 상기 제1 및 제2 자장원 사이에 마련되되 상기 제1 및 제2 굴곡부의 외주를 각각 감싸는 제1 및 제2 유도자장원으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.</p>
申请公布号 KR101075152(B1) 申请公布日期 2011.10.19
申请号 KR20090014363 申请日期 2009.02.20
申请人 发明人
分类号 C23C14/28 主分类号 C23C14/28
代理机构 代理人
主权项
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