| 发明名称 |
A METHOD FOR PLASMA ETCHING PERFORMANCE ENHANCEMENT |
| 摘要 |
<p>에칭 마스크를 통하여 층에서의 피처를 에칭하는 방법이 개시되어 있다. 보호층을 패시베이션 가스 혼합물을 이용하여 에칭 마스크의 노출면과, 피처의 수직측벽에 형성한다. 하나 이상의 에칭 케미칼과 하나 이상의 패시베이션 케미칼을 포함하는 반응성 에칭 혼합물을 이용하여 에칭 마스크를 통하여 피처를 에칭한다.</p> |
| 申请公布号 |
KR101075045(B1) |
申请公布日期 |
2011.10.19 |
| 申请号 |
KR20107021194 |
申请日期 |
2003.10.06 |
| 申请人 |
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发明人 |
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| 分类号 |
H01L21/3065;H01L21/311;H01L21/32;H01L21/3205;H01L21/768 |
主分类号 |
H01L21/3065 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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