用于刻蚀触摸屏上不可视区域导电薄膜的装置及其方法

摘要

本发明提供一种用于刻蚀触摸屏上不可视区域导电薄膜的装置及方法，高频率短脉冲激光器的输出端布置有光闸，光闸的输出端设置有扩束镜，扩束镜的输出端依次布置有45度全反射镜，45度全反射镜的输出端依次布置有动态聚焦镜和扫描场镜，扫描场镜正对于工作平台，工作平台的一侧安装有吹气装置，工作平台的另一侧安装有集尘装置。采用优化的光路聚焦系统和高频率的脉冲激光器，对不可视区域导电薄膜材料进行蚀刻，得到较细较稳定的线宽，且不损伤基底。

主权项

用于刻蚀触摸屏上不可视区域导电薄膜的装置，其特征在于：高频率短脉冲激光器(1)的输出端布置有光闸(2)，光闸(2)的输出端设置有扩束镜(3)，扩束镜(3)的输出端依次布置有45度全反射镜(4)，45度全反射镜(4)的输出端依次布置有动态聚焦镜(5)和扫描场镜(6)，扫描场镜(6)正对于工作平台(10)，所述工作平台(10)的一侧安装有吹气装置(7)，所述工作平台(10)的另一侧安装有集尘装置(9)。