| 摘要 |
<p>Propojovací struktura, obsahující vrstvu (1) medi a vrstvu (7) vymezující pripojovací plošku, obsahuje dále bariérovou vrstvu (10) a vrstvu (9) AlCu. Vrstva (9) AlCu a bariérová vrstva (10) jsou umístené mezi vrstvou (1) medi a vrstvou (7) vymezující pripojovací plošku. Bariérová vrstva (10) je umístena mezi vrstvou (1) medi a vrstvou (9) AlCu, zajištující robustní propojení vrstvy (1) medi a vrstvy (7) vymezující pripojovací plošku. Ve výhodném provedení vrstva (9) AlCu obsahuje 96 až 99,5 % atom. hliníku Al, resp. 4 až 0,5 % atom. medi Cu a její tlouštka je 0,5 až 1,2 .mi.m. Bariérová vrstva (10) muže být provedena z titanu Ti, nitridu titanu TiN, tantalu Ta, nitridu tantalu TaN nebo z jejich slitin nebo kombinací. Bariérová vrstva (10) ve výhodném provedení sestává z kombinace jednotlivých vrstev uvedené tlouštky: vrstva nitridu titanu TaN 50 až 1000 A, vrstva titanu Ti 200 až 700 A a vrstva nitridu tantalu TiN 200 až 700 A.</p> |
