发明名称 Photosensitive composition and pattern-forming method using the photosensitive composition
摘要 A photosensitive composition comprises (A) a sulfonium or iodonium salt having an anion represented by one of formulae (I) and (II): wherein Y represents an alkylene group substituted with at least one fluorine atom, and R represents an alkyl group or a cycloalkyl group.
申请公布号 US8039200(B2) 申请公布日期 2011.10.18
申请号 US20100853947 申请日期 2010.08.10
申请人 FUJIFILM CORPORATION 发明人 KODAMA KUNIHIKO
分类号 G03F7/038;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/075;G03F7/20;G03F7/30;H01L21/027 主分类号 G03F7/038
代理机构 代理人
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