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<p>이 고강도 광기록 매체 보호막 형성용 스퍼터링 타깃은, 몰％로, 산화지르코늄 또는 산화하프늄 : 10 내지 70 ％, 이산화규소 : 50 ％ 이하(0 ％를 포함하지 않음)를 함유하고, 필요에 따라서 산화이트륨 : 0.1 내지 8.4 ％를 함유하고, 잔량부 : 산화알루미늄, 산화란탄 또는 산화인듐 및 불가피 불순물로 이루어지는 배합 조성을 갖는 혼합 분말을 소결한 광기록 매체 보호막 형성용 스퍼터링 타깃에 있어서, 타깃 소지 중에 AlSiO, LaSiO또는 InSiO의 조성을 갖는 복합 산화물 상이 생성되어 있는 조직을 갖는다.</p> |
