发明名称 SUBSTRATE CLEANING APPARATUS
摘要 <p>약액 처리 후의 기판을 수세 처리하는 경우에, 순수의 사용량을 절감함과 함께 배액양을 줄일 수 있으며, 또 처리 시간을 단축하고, 또한 장치 전체의 공간 절약화와 제조 코스트의 저감화를 달성할 수 있는 기판 세정 처리 장치를 제공한다. 약액 처리 후의 기판 W에 대해 수세 처리를 행하는 수세 처리실(10)이, 기판 반송 방향에 있어서 치환 수세 영역(201), 수세 영역(202) 및 직수세 영역(23)으로 이 순서대로 획정되고, 치환 수세 영역(201) 내에, 입구 노즐(16)과, 고압 노즐(18)과, 강제 배출 노즐(100)과, 에어 노즐(22)이 각각 설치된다. 치환 수세 영역(201) 내로 기판 W가 반입되기 전에 입구 노즐(16), 고압 노즐(18) 및 강제 배출 노즐(100)로부터의 세정수의 토출을 개시하고, 치환 수세 영역(201) 내로부터 기판 W가 반출된 후에 입구 노즐(16), 고압 노즐(18) 및 강제 배출 노즐(100)로부터의 세정수의 토출을 정지하도록 제어한다.</p>
申请公布号 KR101073340(B1) 申请公布日期 2011.10.14
申请号 KR20100110982 申请日期 2010.11.09
申请人 发明人
分类号 H01L21/302 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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