发明名称 CLUSTER TOOL FOR EPITAXIAL FILM FORMATION
摘要 <p>에피택셜 필름 형성 전에, 제 1 가스를 사용하여 제 1 처리 챔버 내에서 기판을 사전 세정하고, 상기 제 1 처리 챔버로부터 제 2 처리 챔버로 진공하에서 이송 챔버를 통해 기판을 이송하며, 상기 제 1 가스를 사용하지 않고 상기 제 2 처리 챔버 내에서 기판상에 에피택셜 층을 형성하며, 클러스터 툴을 사용하기 위한 시스템, 방법 및 장치가 제공된다. 다수의 추가 양태가 개시된다.</p>
申请公布号 KR101074186(B1) 申请公布日期 2011.10.14
申请号 KR20087027246 申请日期 2007.04.06
申请人 发明人
分类号 C23C16/00;C30B23/02;H01L21/02;H01L21/20 主分类号 C23C16/00
代理机构 代理人
主权项
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