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发明名称 COMPOSITION FOR FORMING RESIST LOWER LAYER FILM
摘要 A composition for forming a resist lower layer film, which contains (A) a resin, (B) a butyl ether group-containing crosslinking agent and (C) a solvent.
申请公布号 US2011251323(A1) 申请公布日期 2011.10.13
申请号 US20080599694 申请日期 2008.05.21
申请人 JSR CORPORATION 发明人 YOSHIMURA NAKAATSU;KONNO YOUSUKE
分类号 C08K5/101 主分类号 C08K5/101
代理机构 代理人
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