发明名称 MIXED-ABRASIVE POLISHING COMPOSITION AND METHOD FOR USING THE SAME
摘要 <p>본 발명은 (i) (a) 모스 경도가 8 이상인 제1 연마제 입자 5 내지 45 중량%, (b) 보다 작은 1차 입자들의 응집체를 포함하는 3차원 구조를 갖는 제2 연마제 입자 1 내지 45 중량%, 및 (c) 실리카를 포함하는 제3 연마제 입자 10 내지 90 중량%, 및 (ii) 액체 담체를 포함하는 연마 조성물을 제공한다. 본 발명은 또한 (i) 상기 연마 조성물을 제공하고, (ii) 표면을 갖는 기판을 제공하고, (iii) 연마 조성물로 기판 표면의 적어도 일부를 마모시켜 기판을 연마하는 단계를 포함하는, 기판의 연마 방법을 제공한다.</p>
申请公布号 KR101073800(B1) 申请公布日期 2011.10.13
申请号 KR20057014686 申请日期 2004.02.04
申请人 发明人
分类号 C09G1/02;C09K3/14 主分类号 C09G1/02
代理机构 代理人
主权项
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