发明名称 |
TITANIUM-CONTAINING PRECURSORS FOR VAPOR DEPOSITION |
摘要 |
Disclosed are titanium-containing precursors and methods of synthesizing the same. The compounds may be used to deposit titanium, titanium oxide, strontium-titanium oxide, and barium strontium titanate containing layers using vapor deposition methods such as chemical vapor deposition or atomic layer deposition. |
申请公布号 |
WO2011127122(A2) |
申请公布日期 |
2011.10.13 |
申请号 |
WO2011US31346 |
申请日期 |
2011.04.06 |
申请人 |
L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE;PALLEM, VENKATESWARA, R.;DUSSARRAT, CHRISTIAN |
发明人 |
PALLEM, VENKATESWARA, R.;DUSSARRAT, CHRISTIAN |
分类号 |
C23C16/30;C23C16/16;C23C16/22;H01L21/205 |
主分类号 |
C23C16/30 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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