光刻投射装置及用于所述装置中的反射器组件

摘要

本发明披露一种光刻投射装置，包括可产生辐射投射光束的辐射系统，投射光束来自辐射源射出的辐射；用于支撑构图部件的支撑结构，当由投射光束辐射时提供带图案的投射光束；用于固定基底的基底台；以及投射系统，设置和安排为将构图部件的照射部分成像在基底的靶部上。辐射系统进一步包括离开光轴一段距离的孔径，从光源方向看位于孔径之后的反射器，以及位于孔径之后的低辐射强度区域内的结构。

主权项

用于反射光线电磁辐射的反射器装置(10)，该反射器装置(10)包括至少一个第一反射器(21)和一个第二反射器(22)，所述第一反射器(21)和第二反射器(22)绕光轴(O)对称设置，所述第一反射器(21)和第二反射器(22)中的每一个具有反射面(26，27)和背面(24，25)，在该反射器装置(10)中，与所述第一反射器(21)和第二反射器(22)相交并垂直于光轴(O)的虚线(L)，与所述第一反射器(21)在距离光轴(O)的第一距离(r1)处相交，与所述第二反射器(22)在距离光轴(O)的第二距离(r2)处相交，第一距离(r1)大于第二距离(r2)，由光轴(O)上一点发射的一些光线被所述第二反射器(22)切断，并且由光轴(O)上的该点发射的其它光线在第一反射器(21)的反射面上反射，该光线确定所述第一反射器(21)和第二反射器(22)之间的高辐射强度区域(zh)和低辐射强度区域(z1)，其特征在于在低强度区域(z1)位置处第二反射器(22)的背面(25)上存在着用于在所述第一反射器(21)和第二反射器(22)之间的空间供应流体的喷嘴。