| 发明名称 | 钽阻挡层用化学机械抛光浆料 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种钽阻挡层用化学机械抛光浆料，其包括研磨颗粒、有机膦酸、四氮唑类化合物和载体。本发明的化学机械抛光浆料可以防止金属材料的局部和整体腐蚀，减少衬底表面污染物，降低研磨颗粒的含量，在不同金属与氧化物之间可获得合适的抛光选择性。 | ||
| 申请公布号 | CN1955248B | 申请公布日期 | 2011.10.12 |
| 申请号 | CN200510030856.4 | 申请日期 | 2005.10.28 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 荆建芬;宋伟红;顾元;徐春;宋鹰 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种钽阻挡层用化学机械抛光浆料，其包括研磨颗粒、有机膦酸、四氮唑类化合物和载体；其中，该研磨颗粒的浓度为1～10wt％，该有机膦酸的浓度为0.01～1wt％，该四氮唑类化合物的浓度为0.01～0.5wt％；所述的四氮唑类化合物为5‑甲基‑四氮唑、5‑苯基‑1‑氢‑四氮唑和/或1‑氢‑四氮唑；且该化学机械抛光浆料的pH值为2.0～4.0。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5楼613-618室 | ||