| 发明名称 | 蒸发设备 | ||
| 摘要 | 本申请涉及蒸发设备，该蒸发设备减少掩模的变形、提高基板与蒸发掩模之间的附着性并且提高划分要形成膜的区域和不形成膜的区域的精度。该蒸发设备包括用于使设置在包括磁材料的蒸发掩模上的膜形成基板压靠蒸发掩模的施压机构。该施压机构包括用于将掩模至少吸引向膜形成基板的角部的磁体。 | ||
| 申请公布号 | CN102212778A | 申请公布日期 | 2011.10.12 |
| 申请号 | CN201110083128.5 | 申请日期 | 2011.04.02 |
| 申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 中川善之;吉田正典;増田正道;大山淳史;小金井昭雄;宫町尚利;山口裕人;唐木哲也;浮贺谷信贵;吉川俊明 |
| 分类号 | C23C14/04(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;C23C14/12(2006.01)I;H05B33/10(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 卜荣丽 |
| 主权项 | 一种蒸发设备，包括：用于保持蒸发掩模的机构，所述蒸发掩模包括含有铁磁性材料的金属箔和用于固定金属箔的掩模框架；和用于使设置在蒸发掩模上的膜形成基板压靠蒸发掩模的施压机构，其中所述施压机构至少在与膜形成基板的角部对应的位置处包括磁体。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||