发明名称 Halftone mask and manufacturing method thereof and method for forming film using the same
摘要 본 발명은 서로 이격하는 두 영역의 하부막 높이를 균일하게 형성할 수 있는 하프톤 마스크, 하프톤 마스크 제조방법 및 하프톤 마스크를 이용한 막 형성 방법에 관한 것이다. 본 발명의 하프톤 마스크는 조사되는 광을 차단하고 서로 일정 간격 이격하는 제1 광차단부와 제2 광차단부, 및 제1 광차단부에서 멀리 위치한 제2 광차단부의 측면에 인접하게 배치되며 광의 조사량을 감소시키는 반투과부를 포함하고, 제1 광차단부와 제2 광차단부를 지나는 직선 상에서, 제2 광차단부의 제2 길이와 반투과부의 제3 길이의 합이 제1 광차단부의 제1 길이보다 크다.
申请公布号 KR101073293(B1) 申请公布日期 2011.10.12
申请号 KR20090056941 申请日期 2009.06.25
申请人 发明人
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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