| 发明名称 | 表膜用膜、与TFT液晶面板制造用掩模一起使用的表膜、及包含该表膜的光掩模 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种能够防止在光刻工序中在硬铬掩模上产生生长性杂质的表膜及表膜用膜、以及包含该表膜的光掩模。本发明的表膜用膜，其主要膜材料为光学用有机高分子，在70℃下72小时的换算成每微米膜厚的草酸透过量为1.0×10-3mg/cm2以下。 | ||
| 申请公布号 | CN102216850A | 申请公布日期 | 2011.10.12 |
| 申请号 | CN200980145885.1 | 申请日期 | 2009.11.19 |
| 申请人 | 旭化成电子材料株式会社;HOYA株式会社 | 发明人 | 柳田好德;金子靖;阿部泰之;小川博司;村井诚;新地博之;土屋雅誉;本田邦之;田中友和;桥本宪尚 |
| 分类号 | G03F1/14(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种表膜用膜，其在70℃下72小时的换算成每微米膜厚的草酸透过量为1.0×10‑3mg/cm2以下，主要膜材料为光学用有机高分子。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||