发明名称 |
一种制作微透镜阵列的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种制作微透镜阵列的方法,该方法包括:在透明衬底上匀一层光刻胶;对该光刻胶层进行曝光显影,形成方形的光刻胶块;熔融该方形光刻胶块并迅速冷却至室温,形成具有微透镜形状的光刻胶掩膜;从透明衬底具有微透镜形状光刻胶掩膜的一面进行离子注入,在透明衬底中形成具有不同折射率的两层材料,其中一层材料具有微透镜形状;去除透明衬底上的光刻胶掩膜,形成具有不同折射率两种材料并且具有微透镜的阵列结构。利用本发明,可以制作多层透镜阵列,并能够与传统的集成电路离子注入光刻工艺相集成,适合大规模生产。 |
申请公布号 |
CN101676798B |
申请公布日期 |
2011.10.12 |
申请号 |
CN200810222332.9 |
申请日期 |
2008.09.17 |
申请人 |
中国科学院微电子研究所 |
发明人 |
董立军 |
分类号 |
G03F7/00(2006.01)I;G03F7/16(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G03F7/26(2006.01)I;G03F7/42(2006.01)I;G02B3/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/00(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
周国城 |
主权项 |
一种制作微透镜阵列的方法,其特征在于,该方法包括:在透明衬底上匀一层光刻胶;对该该光刻胶层进行曝光显影,形成方形的光刻胶块;熔融该方形光刻胶块并迅速冷却至室温,形成具有微透镜形状的光刻胶掩膜;从透明衬底具有微透镜形状光刻胶掩膜的一面进行离子注入,在透明衬底中形成具有不同折射率的两层材料,其中一层材料具有微透镜形状;去除透明衬底上的光刻胶掩膜,形成具有不同折射率两种材料并且具有微透镜的阵列结构。 |
地址 |
100029 北京市朝阳区北土城西路3号 |